发明名称 |
致密性铬锌氧化物溅镀靶材及其制法与应用;CRO-ZNO COMPACT SPUTTERING TARGET, METHOD OF PREPARING THE SAME AND ITS APPLICATION |
摘要 |
本发明提供一种致密性铬锌氧化物溅镀靶材之制法,其系将酸根离子化合物粉末与一氧化锌粉末及三氧化二铬粉末混合,并经过预成型及适当的烧结步骤后,制得该致密性铬锌氧化物溅镀靶材。此外,本发明另提供一种致密性铬锌氧化物溅镀靶材及利用该致密性铬锌氧化物溅镀靶材制作光记录媒体之铬锌氧化物膜之方法。依据本发明,将酸根离子化合物粉末与一氧化锌粉末及三氧化二铬粉末混合,并进行适当的烧结步骤,能具体克服现有技术铬锌氧化物溅镀靶材密度不足之缺点,进而提升该致密性铬锌氧化物溅镀靶材及其溅镀而成之铬锌氧化物膜的应用性。 |
申请公布号 |
TW201536940 |
申请公布日期 |
2015.10.01 |
申请号 |
TW103110031 |
申请日期 |
2014.03.18 |
申请人 |
光洋应用材料科技股份有限公司 SOLAR APPLIED MATERIALS TECHNOLOGY CORP. |
发明人 |
罗鸿文 LO, HUNG WEN;蔡孟宏 TSAI, MENG HUNG;萧咏祯 SHIAU, YUNG JEN |
分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒林景郁 |
主权项 |
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地址 |
台南市安南区工业三路1号 TW |