发明名称 一种等离子体处理装置、其静电夹盘及静电夹盘的制作方法
摘要 一种等离子体处理装置、其静电夹盘及静电夹盘的制作方法,所述静电夹盘包括金属基座,金属基座上方设置加热装置,加热装置上方设置导热板,导热板上方设置陶瓷绝缘层,通过设置加热装置和导热板距离基片的高度不同,以及在陶瓷绝缘层和导热板之间设置厚度可控的导热粘胶层,实现对陶瓷绝缘层表面温度均匀或具有特定温度梯度的多参数调节。本发明除了可以调节加热装置的电源功率外,还可以通过调节不同加热区加热装置的高度落差,不同加热区导热板的厚度,以及陶瓷绝缘层和导热板之间导热粘胶层的厚度,来实现对陶瓷绝缘层表面温度的调节,大大增加了静电夹盘的温度可控性,有利于快速的调节静电夹盘不同区域温度的均匀或特定梯度。
申请公布号 TW201537656 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW103145977 申请日期 2014.12.29
申请人 中微半导体设备(上海)有限公司 发明人 何 乃明 HE, NAI-MING;吴 狄 WU, DI;倪 图强 NI, TU-CIANG
分类号 H01L21/67(2006.01);H01L21/687(2006.01) 主分类号 H01L21/67(2006.01)
代理机构 代理人 张淑婷
主权项
地址 中国大陆 CN