发明名称 |
一种等离子体处理装置、其静电夹盘及静电夹盘的制作方法 |
摘要 |
一种等离子体处理装置、其静电夹盘及静电夹盘的制作方法,所述静电夹盘包括金属基座,金属基座上方设置加热装置,加热装置上方设置导热板,导热板上方设置陶瓷绝缘层,通过设置加热装置和导热板距离基片的高度不同,以及在陶瓷绝缘层和导热板之间设置厚度可控的导热粘胶层,实现对陶瓷绝缘层表面温度均匀或具有特定温度梯度的多参数调节。本发明除了可以调节加热装置的电源功率外,还可以通过调节不同加热区加热装置的高度落差,不同加热区导热板的厚度,以及陶瓷绝缘层和导热板之间导热粘胶层的厚度,来实现对陶瓷绝缘层表面温度的调节,大大增加了静电夹盘的温度可控性,有利于快速的调节静电夹盘不同区域温度的均匀或特定梯度。 |
申请公布号 |
TW201537656 |
申请公布日期 |
2015.10.01 |
申请号 |
TW103145977 |
申请日期 |
2014.12.29 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
何 乃明 HE, NAI-MING;吴 狄 WU, DI;倪 图强 NI, TU-CIANG |
分类号 |
H01L21/67(2006.01);H01L21/687(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
张淑婷 |
主权项 |
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地址 |
中国大陆 CN |