Method and apparatus for restoring property of Graphene

摘要

그래핀 물성 복귀 방법 및 장치가 개시된다. 개시된 그래핀 물성 복귀 방법 및 장치는 그래핀을 접지한 상태에서 0.3*10~30*10cm의 범위 내에 저밀도 플라즈마에 상기 그래핀을 노출하여 상기 그래핀의 물성을 복귀시킨다. 이러한 그래핀 물성 복귀 방법 및 장치는 저온, 대면적, 빠른 공정속도, 친환경, 그리고 실리콘 공정과 호환가능하다.