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经营范围
发明名称
Esterverbindungen, Polymere, Photoresistkompositionen und Mustererzeugungsverfahren
摘要
申请公布号
DE60127021(T2)
申请公布日期
2007.12.13
申请号
DE20016027021T
申请日期
2001.04.27
申请人
SHIN-ETSU CHEMICAL CO. LTD.
发明人
HASEGAWA, KOJI;NISHI, TSUNEHIRO;KINSHO, TAKESHI;WATANABE, TAKERU;NAKASHIMA, MUTSUO;TACHIBANA, SEIICHIRO;HATAKEYAMA, JUN
分类号
G03F7/039;C07C67/14;C07C67/31;C07C69/67;C07C69/716;C08F20/16;C08G61/08;G03F7/004
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
主权项
地址
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