| 发明名称 | 流化床装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抑制静电影响的流化床装置及使用该装置的除静电方法，所述流化床装置在医药品制备工序、化妆品制备工序、食品制备工序、化学品制备工序等中将微粒作为流化床进行处理。本发明的流化床装置设置有对流化床装置内的微粒照射X射线的X射线照射装置。 | ||
| 申请公布号 | CN101080267A | 申请公布日期 | 2007.11.28 |
| 申请号 | CN200580043596.2 | 申请日期 | 2005.12.21 |
| 申请人 | 卫材R&D管理有限公司 | 发明人 | 财满泰弘 |
| 分类号 | B01J8/42(2006.01);B01J2/16(2006.01) | 主分类号 | B01J8/42(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 1、一种流化床装置，其特征为，所述流化床装置设置有对流化床容器内的被处理对象的微粒照射X射线的X射线照射装置。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||