发明名称 一种以无纺织布为基底制备柔性电路的方法
摘要 一种以无纺织布为基底制备柔性电路的方法,属于纺织技术与电子技术的交叉技术领域。本发明以常规的无纺织布为基底,以低温磁控溅射的方式将具有良好导电性能的金属(如铝、铜、或银等)溅射在其表面形成纳米结构镀层,从而构建出各种具有特定功能的电路图。本发明所制备的柔性电路镀层与无纺织布结合强度高,性能可靠,并具有良好的可加工性。由于这种柔性电路具有很好的柔性,可以任意弯曲,因而可广泛用于很多特殊的领域,如智能服装、高档装饰品的设计、航空航天等。
申请公布号 CN101080144A 申请公布日期 2007.11.28
申请号 CN200710023298.8 申请日期 2007.06.14
申请人 江南大学 发明人 肖居霞;魏取福;徐秋香
分类号 H05K3/16(2006.01);H05K1/02(2006.01) 主分类号 H05K3/16(2006.01)
代理机构 无锡市大为专利商标事务所 代理人 时旭丹;刘品超
主权项 1、一种以无纺织布为基底制备柔性电路的方法,其特征是以无纺织布为基底,以低温磁控溅射的方式将具有良好导电性能的金属铝、铜或银溅射在无纺织布基底表面形成纳米结构镀层,构建出各种具有特定功能的电路图,赋于无纺织布表面以特殊的电子功能,(1)运用常规的聚酯、聚丙烯或聚酰胺聚合物纤维无纺织布为基材,对选用的无纺织布进行预处理,将其置入等离子处理器,采用氧气,在功率为50瓦的条件下进行处理60秒;(2)选择具有良好导电性能的金属铝、铜或银为镀层材料;(3)功能电路的设计;(4)将设计完成的电路雕刻成模具,粘附在无纺织布的表面;(5)将粘附有电路模具的无纺织布放入低温磁控溅射设备进行镀层溅射,溅射工艺:采用JP-450A型磁控溅射仪,溅射工作压力控制在1.3-2.0×10-1Pa,基片温度<50℃,靶与基材距离5-10cm,溅射角5~8°,溅射功率100-200W,膜厚控制为50nm-300nm,采用基材在上、磁控溅射靶在下的结构,即由下向上溅射,而且沿轴向磁控溅射靶与基片距离在线动态连续可调,溅射完成之后取下模具,柔性电路即制备完成。
地址 214122江苏省无锡市蠡湖大道1800号