| 发明名称 | 加热处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种既可使基板的上方的温度分布均匀也可以降低升华物的产生的加热处理装置。加热处理装置至少具有：筐体(1)；可以升降地配置在筐体(1)内的载置台(2)；设置于载置台(2)上，并对载置于该载置台(2)上的基板加热的第1加热单元(3)，在筐体(1)的一侧设置第2加热单元(9)，并在筐体的另一侧设置排气机构(10)。 | ||
| 申请公布号 | CN101055433A | 申请公布日期 | 2007.10.17 |
| 申请号 | CN200710095853.8 | 申请日期 | 2007.04.10 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 岛井太 |
| 分类号 | G03F7/38(2006.01);G03F7/40(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/38(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 雒运朴;徐谦 |
| 主权项 | 1.一种加热处理装置，其至少具有筐体；可升降地配置于上述筐体内的载置台；设置于上述载置台上，并对载置于该载置台上的基板加热的第1加热单元，其特征在于：在上述筐体的一侧设置有第2加热单元，并在上述筐体的另一侧设置有排气机构。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||