| 主权项 |
1. 具下式之化合物: (其中,R8是氢,R1是1一羟乙 基,R15是C1一C3烷基,R2是氢,阴 离子电荷或是一习用之易于移除的碳 基保护基,唯若当R2是氢或保护基 时,亦存有一抗衡阴离子,A是C2一 C4直链烷撑基,任意经卤素如氯所 取代之苯基,或者其中R10和R11可 同与S。连接一起代表5--6节之含 硫杂环,且其含0一2个择自氧之额 外杂原子,该环系经硫原子连接至A 。2. 具下式之化合物 式中R2为氢,一阴离子电荷或一通 常可迅速移去之羧基保护基;以及 及其药理上可接受之盐。3. 一种具下式之化合物 式中R2为氢,一阴离子电荷或一传 统上可迅速移离之羧基保护基,其先 后条件为当R2为氢或一保护基,则 亦存在一抗衡阴离子,或其药理上可 (式中廷D为一抗衡阴离子,且R', R3'A)R1。,R",R"及R"定 义如上)以及,视情况需要,可移除 羧基保护基R"以得到相对应于式1 化合物之圭保护基化合物,或其药理 上可接受之盐。 7.一种制备具有下式之化合物之方法 (其中,R8,R'是I一羟乙基,R" 是C,一Cs烷基,R2是氢,阴离子电 荷,或是一习用之易于移除的羧基保 护基,而当R2是氢或保护基时亦存 有一抗衡阴离子,A是Ct-C。直链烷 挡,R'。和R"分别代表C,-C,烷 基,可破一卤素如氯或不破取代之苯 基,或者其中R,。和R,,可同与曲 连接以表一5一6节之含硫杂环其含 0一2额外之择自o之累原子,该环 经硫原子连接至A,因而形成一基, 此方法包括下列步骤: 口令下式中间产物 (其中R',RB及R'。定义如上, 且R"为一习用之可移除之羧基保 护基),于惰性有机溶剂如二氯甲 烷,乙睛或二甲基甲醯胺在硷如二 异内基乙基胺,二乙基胺,4一二 甲基氨毗啶等存在下于从一2OC 至十40"C 之温度下,与三苯氯磷 酸盐反应以得到下式之中间产物 (其中R',R。,R"及R"均定义 如上) (2)令中间产物皿于惰性有机溶剂如二 嘌烷,二甲替甲醯胺,二甲基亚枫 或乙睛并在硷如二异户基乙基胺, 三乙基胺,碳酸氢钠,碳酸钾或4 一甲基氨基毗碇存在下于一4oc至 + 25C 之温度下,和一大约等莫 耳之下式之硫醇试剂反应 HS-A-oH (其中A定义如上)以得到下式之 中间产物 (其中,R1,R8,R15,A及R21 定义如上) (3)令中间产物V于惰性有机溶剂如四 氢峡哺,二氯田烷,乙睛或二甲替 甲醯胺,并于硷,如二异内基乙基 胺,三乙基胺,4一二甲基胺基毗 碇之存在下在从一40C至十40C 之温度下,与甲烷磺醯氯或其等量 之官能醯化基反应以得到下式之中 间产物 (其中,R',R8,R'。,A及R" 均定义如上) (4)令中间产物,VI于惰性有机溶剂如 丙酮,二甲替甲醯胺或二甲亚硅在 室温或室温以上之温度与破离子源 反应以用破基取代甲烷磺醯氧基, 而得下式之中间产物: (其中R',RB,R",A及R"'均 定义如上;以及 (5)令TI之中间产物进行亲核反应,此 反应在一惰性有机溶剂如四氢吠哺 ,二嘌烷二氯甲烷,二甘醇二甲酯 ,二甲氧乙烷并在铝离子存在下在 一从一25。c 至十25。c 之范围与 一具有下武之硫化剂作用 (其中R10及R11定义如上)而以 下式基团取代中间产物11中之破基 并形成下式之化合物 (其中X 为一抗衡阴离子,且 R1,R8,A,R10,R11,R15及 R21定义如上),且,视情况需要 ,可移除羧基保护基R21以得到相 对应于式I化合物之去保护基化合 物,或其药理上可接受之盐。 8.依据请求专利部份第1.或2项之方法 ,藉此方法以制得3一[2一(1一 四氢硫代青霉素碳烯)乙硫基)一6 一a一[1一(R)一羟乙基)一4 一R一甲基一7一氧一1一氮杂二环 [3,2,0]庚一2一烯一2一羧 酸酯。 |
