发明名称 包含一夹持具以容纳一光学系统之光学装置
摘要
申请公布号 TW101404 申请公布日期 1988.07.16
申请号 TW076103766 申请日期 1987.06.30
申请人 飞利浦电泡厂 发明人 约翰尼.威廉.佛斯路易
分类号 G02B27/00;G02B27/30 主分类号 G02B27/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 l.一光学装置,包含一夹持具以容纳一系 列光学元件,特别是一个透镜系统, 这些元件被固定在夹持具的内壁,其 特征在于此光学系统的当量膨胀系数 使此系统之光学作用的改变可视为温 度的函数,并且其决定是由: 这些光学元件之材料的膨胀系数 , 这些材料的折射率及其随温度的 变化,以及 这些光学元件之尺寸等于夹持具 材料之膨胀系数,此夹持具材料是位 于该光学系统的两个外侧元件在夹持 具上的固定物之间。 2.一个根据上述申请专利范围第1.项之 光学装置,该装置为一个光学辐射源 组件之形式,此组件供给二个辐射瞄 准光束并有一轴射源以及一个其物焦 平面必须与辐射源之辐射表面相吻合 的瞄准器透镜,其特征在于瞄准器透 镜是一个单透镜,并在于其当量膨胀 系数使瞄准器透镜前焦距的变化成为 温度的函数并且等于夹持具材料的膨 胀系数。夹持具材料系位于辐射源及 瞄准器透镜在夹持具上之固定物之间 。 3.一个根据上述申请专利范围第2.项之 光学辐射源组件,其特征在于瞄准器 透镜为一个平凸面透镜而且满足以下 之条件: 其中 eq 是当量光学膨胀系数, ft 是前焦距, f 是瞄准器透镜的物焦距, 1 是瞄准器透镜材料的线膨胀 系数, D1 是瞄准器透镜的轴厚度, n1 是瞄准器透镜材料的折射率 , 是对应的温度的导数, 1 是介于辐射源与瞄准器透镜 之间的夹持具材料之线膨胀系数,而 L 是介于辐射源与瞄准器透镜之 间的夹持具之长度。 4.一种根据上述申请专利范围第3.项之 光学辐射源组件,其中该辐射源是一 个其波长依照温度而决定约两极管雷 射,其特征在于能满足以下条件: 其中 分别为对应波长与温 度的偏函数。 5.一个根据上述申请专利范围第2.项之 光学辐射源组件,该组件的瞄准器透 镜是一个双凸面透镜,其特征在于能 满足以下条件: 其中 f 是瞄准器透镜的物焦距, 1 是瞄准器透镜材料之线膨胀 系数, f1 是瞄准器透镜远离辐射源之 表面的等效焦距, D1 是瞄准器透镜之轴原度。 n1 是瞄准器透镜材料之折射率 , R2 是瞄准器透镜面对辐射源之 表面的曲率半径, 是对应温度的导函数, 2 是介于辐射源与瞄准器透镜 之间的夹持具材料之线膨胀系数,而 L 是介于辐射源与瞄准器透镜之 间的夹持具长度。 6.一个根据上述申请专利范围第5.项之 光学辐射源组件,其中该辐射源是一 个其波长依照温度而决定的两极管雷 射,其特征在于能满足下列条件: 其中的 分别为对应波长与 温度的偏导函数。 7.一个根据上述申请专利范圈第2.项之 光学辐射源组件,其中有一光束分开 元件是装设在瞄准器透镜及辆射源之 间,其特征在于瞄准器透镜呈一个平 凸面透镜,而且能满足以下条件: 其中 1 是瞄准器透镜材料的线膨胀 系数, f 是瞄准器透镜的物焦距, D1 是瞄准器透镜的轴厚度, n1 是瞄准器透镜材料的折射率 , D3 是分开光束元件之轴厚度, n3 是此元件材料之折射率, 3 是该元件材料之线膨胀系数 , 是对应温度之导数, L 是介于瞄准器透镜与瞄射源之 间的夹持具之长度,而2 是介于辐 射源与瞄准器透镜之间的夹持具材料 之线膨胀系数。 8.一个根据上述申请专利范围第7.项之 光学辐射源组件其中的鲸射源是一个 其波长依照温度而决定之两极管雷射 ,其特征在于能满足以下条件: 其中的 是分别为对应波长 与温度之偏导数。 9.一个根据上述申请专利范围第2.项之 光学辐射组件,其中在辐射源与瞄准 器透镜之间装设有一个分开光束的元 件,其特征在于此瞄准器是一个双面 凸透镜,而且能满足以下的条件: 其中 f 是瞄准器透镜之物焦距, f1 是瞄准器透镜远离辐射源之 表面的等效焦距, D1 是瞄准器透镜之,轴厚度, n1 是瞄准器透镜材料之折射率 , 1 是瞄准器透镜材料之线膨胀 系数, R2 是瞄准器透镜面对辐射源之 表面的曲率半径, D3 是分开光束元件之轴厚度, n3 是此元件材料之折射率, 3 是此元件材料之线膨胀系数 , 是对雄温度之导数 2 是介于辐射源与瞄准器透镜 之间的夹持具材料之线膨胀系数,而 L 是介于辐射源与瞄准器透镜之间的 夹持具之长度。 10.一个根据上述申请专利范围第9.项之 光学辐射源组件,其中的辐射源是一 个其波长依照温度而决定的两极管雷 射,其特征在于能满足以下条件: 其中的 分别为对应波长及 温度的偏导数, 11.一个用以扫瞄一具在一光学记录载波 器之内的资料面的装置,该装置包括 一个供给一个扫瞄光束的辐射源及一 个物镜系统以将此扫瞄光束焦距到资 料面中的一个扫瞄点上,其特征在于 此辐射源组件系被作成申请专利范围 第2.项至第10.项中任何一项的一个辐 射源组件的形式。
地址 荷兰