| 主权项 |
1.下式通式之一种化合物: 在其中 Z1及Z2每个各别为-O-,-S- 或-NR5-,其中R5为氢,随意取代之 烃基或醯基; X1及X2系选自氢,卤素,氰基,C 1-4烷基,C1-4烷氧基,芳基,胺其甲醯 基,胺磺醯基,羧基或羧酸酯; R1为随意取代之芳基; A为随意取代之烷基或下式之基: R2-(CH=CH)n- 其中R2为随意取代之芳基或杂环基,及 n有1或2之値。2.根据中请专利范围第1项之化合物, 在其 中X1及X2两者均为氢。3.根据申请专利范围第1项或 第2项之化合 物,在其中Z1及Z2两者均为氧。4.根据申请专利范围 中第1或2项之化合物 ,在其中A为下式之基: R2-CH=CH- 其中R2有第1项中规定之意义。5.用以制造第1项其 中A为随意取代烷基之 化合物方法,包括使下式之-酮酸: R7COCOOH 在其中R7为随意取代之烷基,与下式之 化合物,存在有强硫酸或甲磺酸反应: 在其中R1,X1,X2,Z1及Z2有第1 项中规定之意义。6.用以制造第1项其中A为下式基 之化合物 方法: R2-(CH=CH)n- 包括使下式化合物: 与下式之醛反应: R2-(GH=CH)n-1CHO 在其中R1,R2,X1,X2,Z1,Z2及 n有第1项中规定之意义。7.用以使芳族聚酯织物染 料之方法包括藉染 色,压染或印染技术将第1项化合物之含 水分散液加至织物上。 |
