发明名称 含镍、氧化铝和二氧化锆的触媒组成物之制法
摘要 本发明系关于含镍、氧化铝和二氧化锆的触媒组成物之制法,使用过量硷性化合物水溶液为沉淀剂,在pH值7至10和温度 60-120 ℃,使混合溶液中的镍、铝、和锆,同时沉淀,淀积在支持材料上,过滤、乾燥、和还原,并涉及特殊触媒组成物,及其用做类、芳香烃、硝基化合物、和烯烃,在液相内加氢所用触媒。本案已向德国申请专利,申请日期:1988年 3 月31日案号:P
申请公布号 TW143577 申请公布日期 1990.10.11
申请号 TW078102267 申请日期 1989.03.30
申请人 霍奇史特公司 发明人 卡尔戴特佛宁;葛哈特宏恩
分类号 B01J32/00;B01J37/00 主分类号 B01J32/00
代理机构 代理人 陈嗣庆 台北巿民权东路三段一四四号一五二六室
主权项 1﹒一种利用沉淀、过滤、乾燥和还原,以制 备含镍、氧化铝和二氧化钴的触媒组成物 之方法,其特征为,每公升含10-100克 镍,每100份重量镍有相当于1-30份重 量A1203以及每100份重量镍有相当于0.5 -20份重量Zr02的水溶性混合盐溶液,与 做为沉淀剂的硷金属碳酸盐、硷金属碳酸 氢盐、硷金属氢氧化物、氢氧化铵和/或 碳酸铵之水溶液混合,沉淀剂用量为Ni、 Al 和Zr沉淀所需量的化学计量过量5- l00%,Ni、Al和Zr同时沉析和定着于活 性炭、泥质土、浮石、Al203.SiO2.矽凝 胶、矽藻土,尤其是矽藻土或SiO2,呈沉 淀矽酸型,做为支持材料,在60-120℃ 和pH値7-10进行沉淀,再加以过滤,过 滤残渣在40-120℃乾燥至残余含水量低 于乾燥物质的10%重量,并在300-550 ℃利用氢还原者。 2﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,混 合盐溶液含游离酸,相当于H+:Zr4+比 =(2至40):1者。 3﹒如申请专利范围第2项之制法,其中,硝 酸用做游离酸者。 4﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,混 合盐溶液含铝相当于每100重量份镍有3 -15重量份A1203,而以4-10重量份为佳 者。 5﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,混 合盐溶液含钴相当于每100重量份镍有1 -10重量份Zr02,而以1.5-5重量份为 佳者。 6﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,使 用水性硷金属碳酸盐、硷土金属酸氢盐、 硷金属氢氧化物、氢氧化铵、和/或碳酸 铵溶液为沉淀剂者。 7﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,取 用沉淀剂,而混合盐溶液则导入沉淀剂内 者。 8﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,混 合盐溶液相沉淀剂彼此混合,再加支持材 料者。 9﹒如申请专利范围第1项之制法,其中,支 持材料题示粒径为0.1-200um,以0.5 -50为佳,而以1-3Oum最佳者。 10﹒如申请专利范围第1项之制法,其中, 沉淀是在pH値7.3-9.0进行,而以7.5 -8.5为佳者。 11﹒如申请专利范围第1项之制法,其中, 沉淀是在70-110℃进行,而以95-105 ℃为佳者。 12﹒一种依申请专利范围第l项所请之方法 制得之触媒组成物,含Ni、Al203和ZrO2, 其特征为,相对于触媒组成物的20-90重 量%镍,以及每100重量份镍,有1-30 重量份A1203和0.5-20重量份Zr02,共沉 淀而淀积于支持材料上者。 13﹒如申请专利范围第12项之触媒组成物, 其中,含有触媒组成物的35-75重量%镍 ,每100重量份镍有3-15重量份A1203和 1-10重量份ZrO2者。 14﹒如申请专利范围第12项之触媒组成物, 其中,含有触媒组成物的40-70重量%镍 ,每100重量份镍有4-10重量份A1203和1.5-5重量份Zr02者 。 15﹒如申请专利范围第12项之触媒组成物, 系做为睛类、芳香烃类、硝基化合物、和 烯烃类在液相内加氢用之高度活性触媒之 用途。
地址 德国