发明名称 CIRCUIT INTEGRE EN TECHNOLOGIE SILICIUM SUR ISOLANT COMPORTANT UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP ET SON PROCEDE DE FABRICATION.
摘要 <P>Ce circuit comprend notamment un transistor JFET comportant une source et un drain (42, 44) isolés, d'un type de conductivité dans la partie supérieure 16 d'un îlot (18) semi-conducteur, une grille supérieure (35) entre la source et le drain, une couche isolante enterrée (4) supportant l'îlot, une grille enterrée (12) dans l'îlot et au contact de la couche isolante, cette électrode présentant un second type de conductivité différent du premier, une zone diffusée (36) dans au moins un flanc (18a) de l'îlot à partir d'un matériau conducteur (29) recouvrant ledit flanc, ce matériau conducteur étant dopé avec des impuretés du second type de conductivité, la zone diffusée du second type de conductivité étant isolée électriquement des source et drain et assurant la prise de contact électrique de l'électrode et le matériau conducteur constituant le contact électrique de l'électrode, et des contacts de source et drain (50) et de grille (31).</P>
申请公布号 FR2663464(A1) 申请公布日期 1991.12.20
申请号 FR19900007655 申请日期 1990.06.19
申请人 COMMISSARIAT A ENERGIE ATOMIQUE 发明人 BLANC JEAN-PHILIPPE;BONAIME JOELLE;DU PORT DE PONCHARRA JEAN;TRUCHE ROBERT
分类号 H01L27/06;H01L21/8234;H01L29/78;H01L29/786;H01L29/808 主分类号 H01L27/06
代理机构 代理人
主权项
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