| 发明名称 | 一种光刻胶清洗剂 | ||
| 摘要 | 一种光刻胶清洗剂包括缓蚀剂和溶剂，其中缓蚀剂包括两类化合物：一类为烷基醇单芳基醚类化合物，另一类选自酚类化合物，羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物，酸酐、聚酸酐类化合物和/或膦酸、膦酸酯类化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN101523298A | 申请公布日期 | 2009.09.02 |
| 申请号 | CN200780037460.X | 申请日期 | 2007.10.22 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 彭洪修;史永涛;刘兵 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C23G1/06(2006.01)I;C11D7/26(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||