具有低压强分布的带双阻挡器的无针型注射装置

摘要

本发明涉及一种无针型注射装置(1)，其包括由之间装有液体有效成分(6)的上游阻挡器(4)和下游阻挡器(5)阻隔的储存器(3)、以及包括至少一个注射导管(8)的容器(7)，所述容器包含腔体(10)，所述腔体(10)的高度等于由下游阻挡器在打开每个注射导管之前覆盖的距离，其中：-以毫米为单位的所述腔体的高度处于分别由以下等式定义的最小高度和最大高度之间：·最小高度＝3，·最大高度＝15×exp(-(V/9)²)+10，其中V是以巴每微秒为单位的压强分布的初始增加的速度；-每个所述注射导管的长度与所述腔体的高度之间的比为1到2之间。

主权项

1. 一种无针型注射装置(1)，包括例如气体发生器的能量源、由之间装有液体有效成分(6)的上游阻挡器(4)和下游阻挡器(5)阻隔的储存器(3)、以及配备有容器(7)和至少一个注射导管(8)的注射喷嘴，所述容器包含腔体(10)，所述腔体(10)的高度等于由下游阻挡器在打开每个注射导管之前覆盖的距离，其特征在于所述装置被设计为：-以毫米为单位的所述腔体的高度处于分别由以下等式定义的最小高度和最大高度之间：·最小高度＝3·最大高度＝15×exp(-(V/9)2)+10其中V是以巴每微秒为单位的压强分布的初始增加的速度；-每个所述注射导管的长度与所述腔体的高度之间的比为1到2之间。