发明名称 氮化镓基半导体结构组合及其制造方法
摘要 本发明揭露一种氮化镓基半导体结构组合及其制造方法。根据本发明之氮化镓基半导体结构组合包含一基板、一第一氮化镓层以及一第二氮化镓层。该第一氮化镓层与该第二氮化镓层系分别以不同的磊晶制程来磊晶。特别地,该第一氮化镓层能促进该第二氮化镓层之磊晶品质。
申请公布号 TW200924025 申请公布日期 2009.06.01
申请号 TW096143814 申请日期 2007.11.20
申请人 陈敏璋 发明人 陈敏璋
分类号 H01L21/20(2006.01);H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L21/20(2006.01)
代理机构 代理人 陶霖;谢志敏
主权项
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