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发明名称
氮化镓基半导体结构组合及其制造方法
摘要
本发明揭露一种氮化镓基半导体结构组合及其制造方法。根据本发明之氮化镓基半导体结构组合包含一基板、一第一氮化镓层以及一第二氮化镓层。该第一氮化镓层与该第二氮化镓层系分别以不同的磊晶制程来磊晶。特别地,该第一氮化镓层能促进该第二氮化镓层之磊晶品质。
申请公布号
TW200924025
申请公布日期
2009.06.01
申请号
TW096143814
申请日期
2007.11.20
申请人
陈敏璋
发明人
陈敏璋
分类号
H01L21/20(2006.01);H01L33/00(2006.01)
主分类号
H01L21/20(2006.01)
代理机构
代理人
陶霖;谢志敏
主权项
地址
台北市中正区辛亥路1段7巷11号3楼
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