处理基板之方法、提供基板处理材料之旋转单元及其设备

摘要

一种用以旋转基板之旋转单元及基板处理方法。基板系固定于支撑物上并于支撑物上旋转。包括乾燥气体、蚀刻液及清洗液之处理材料系选择性地供应至旋转之基板之下表面。相同之处理材料亦选择性地供应至基板之上表面。藉由透过第一子注射器及第二子注射器而同时供应处理材料可同时处理基板之上表面及下表面。