| 发明名称 | 图案化光阻层的形成方法 | ||
| 摘要 | 一种图案化光阻的形成方法，其适用于一基底，此方法包括：于该基底上方进行一植入制程，之后进行一表面处理制程，接着，于该基底上方形成一光阻层。继之，图案化该光阻层。 | ||
| 申请公布号 | TW200924018 | 申请公布日期 | 2009.06.01 |
| 申请号 | TW096143771 | 申请日期 | 2007.11.19 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 许德绍 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 | ||