快闪单元之制造方法

摘要

一种半导体装置之快闪单元之制造方法，系包含沉积一损坏防护膜于一硬光罩图案上及/或上方，当使用蒸汽处理室(VPC)制程除去硬光罩时以防止对闸极图案之ONO薄膜造成损坏。