| 发明名称 | 图案化的方法 | ||
| 摘要 | 一种图案化的方法，此方法包括在基底上形成膜层，并测量前层相关资料。之后，进行蚀刻制程，以蚀刻膜层，蚀刻制程依序包括主蚀刻步骤、蚀刻终点侦测步骤、延伸蚀刻步骤以及过度蚀刻步骤。施行延伸蚀刻步骤的时间是依据预定之延伸蚀刻时间与前层相关资料的关系而设定在10秒以内，以达到所需之膜层轮廓。 | ||
| 申请公布号 | TW200917379 | 申请公布日期 | 2009.04.16 |
| 申请号 | TW096136782 | 申请日期 | 2007.10.01 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 郭龙恩;廖俊雄;杨闵杰 |
| 分类号 | H01L21/469(2006.01) | 主分类号 | H01L21/469(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 | ||