发明名称 |
检验方法与装置,微影装置,微影处理单元及器件制造方法 |
摘要 |
在一判定一微影过程中之一目标图案之一结构参数的方法中,自一参考图案计算一系列校准光谱。对每一经计算光谱执行光谱分析,光谱分量及关联加权经导出且储存于一库中或用作一迭代搜寻方法之基础。自该目标图案量测一光谱,且执行该经量测光谱之光谱分析。比较主要分量之经导出加权因数与该经量测光谱之加权因数以判定该结构参数。 |
申请公布号 |
TW200916978 |
申请公布日期 |
2009.04.16 |
申请号 |
TW097129443 |
申请日期 |
2008.08.01 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
雨果 奥格斯提纳斯 约瑟夫 克瑞马 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03B27/52(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |