| 发明名称 |
微影装置及污染移除或避免之方法 |
| 摘要 |
本发明揭示一种浸没微影装置，该浸没微影装置系藉由使用一清洁液体来清洁，该清洁液体基本上由以下各物组成：超纯水，及(a)过氧化氢与臭氧之一混合物，或(b)高达5％之一浓度的过氧化氢，或(c)高达50 ppm之一浓度的臭氧，或(d)高达10 ppm之浓度的氧，或(e)选自(a)-(d)之任何组合。 |
| 申请公布号 |
TW200916975 |
申请公布日期 |
2009.04.16 |
| 申请号 |
TW097128014 |
申请日期 |
2008.07.23 |
| 申请人 |
ＡＳＭＬ荷兰公司 |
发明人 |
安东尼 马提斯 柯尼利 佩勒斯 迪 琼恩;汉斯 强森;马汀斯 汉德利克斯 安东尼斯 里恩德斯;安东尼奥斯 乔汉那斯 凡 德 涅;彼得 法兰西卡斯 汪坦;杰奎斯 柯尔 裘汉 凡 德 当克;罗伯特 道格拉斯 瓦特梭;度尼斯 康纳利斯 凡 丹 朵尔;纳德嘉 硕;詹 威勒姆 克罗姆韦克 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03B27/52(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
荷兰 |
