洗净防蚀用组成物及半导体元件或显示元件之制法

摘要

一种洗净防蚀用组成物，其系使用于具有含铜金属配线之半导体元件等的制程，其防蚀剂成分系唑、3,5-二甲基唑之唑衍生物、1,2,4-三唑之三唑衍生物、亚胺基二乙酸、伸乙二胺二丙酸盐酸盐之胺基羧酸类、二异丙基二硫醚及二乙基二硫醚之二硫醚化合物中任一者，其洗净剂成分系氟化铵、氟化四甲铵、乙酸铵、乙酸、乙醛酸、草酸、抗坏血酸、1,2-二胺基丙烷及二甲基乙醯胺之任一者。又，一种使用洗净防蚀用组成物而成的半导体元件等之制法。