发明名称 | 磁盘及其制造方法 | ||
摘要 | 在包含在基板上的磁性层、保护层和润滑层的磁盘中,所述润滑层由自组装单分子层形成。所述自组装单分子层的材料是烃-基硅烷试剂或部分氟化的烃-基硅烷试剂。在所述基板上依次形成所述磁性层和所述保护层(P),然后将其上形成所述磁性层和所述保护层(P)的所述基板浸入到含有所述烃-基硅烷试剂或所述部分氟化的烃-基硅烷试剂的溶液中,从而在所述保护层(P)上形成润滑层(L)。 | ||
申请公布号 | CN101410893A | 申请公布日期 | 2009.04.15 |
申请号 | CN200780011318.8 | 申请日期 | 2007.03.29 |
申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 铃木宏太;富安弘 |
分类号 | G11B5/725(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/725(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王 旭 |
主权项 | 1.一种磁盘,所述磁盘包含在基板上的磁性层、保护层和润滑层,其中所述润滑层由自组装单分子层形成。 | ||
地址 | 日本东京都 |