Lithografische Vorrichtung, Baugruppe und Verfahren zur Messung eines Parameters eines Projektionssystems,申请号DE200560012916T-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Lithografische Vorrichtung, Baugruppe und Verfahren zur Messung eines Parameters eines Projektionssystems
摘要
申请公布号	DE602005012916(D1)	申请公布日期	2009.04.09
申请号	DE200560012916T	申请日期	2005.12.05
申请人	ASML NETHERLANDS B.V.	发明人	SENGERS, TIMOTHEUS FRANCISCUS;VAN DE KERKHOF, MARCUS ADRIANUS
分类号	G03F7/20	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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