| 发明名称 | 基板台、包括该基板台的溅射装置以及成膜方法 | ||
| 摘要 | 一种基板台，被配置在真空容器内并具有载置基板的基板载置面，包括对所述基板施加磁场的第一磁场施加单元，所述第一磁场施加单元内部的磁化方向与所述基板的厚度方向一致。 | ||
| 申请公布号 | CN101910455A | 申请公布日期 | 2010.12.08 |
| 申请号 | CN200980102039.1 | 申请日期 | 2009.01.15 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 菊地幸男;沈国华 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;G11B5/39(2006.01)I;H01L43/08(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 杨晶;王琦 |
| 主权项 | 一种基板台，被配置在真空容器内并具有载置基板的基板载置面，所述基板台包括：第一磁场施加单元，对所述基板施加磁场，所述第一磁场施加单元的内部的磁化方向与所述基板的厚度方向一致。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||