| 发明名称 | 成膜装置以及成膜方法 | ||
| 摘要 | 本发明所要解决的技术问题是，实现材料利用效率以及作业率的提高，且防止以涂覆喷嘴的污染为起因的膜厚均匀性的降低。本发明中，成膜装置(1)中，具备：具有载置涂覆对象物(W)的载置面(2a)的台架(2)、使台架(2)在沿载置面(2a)的旋转方向旋转的旋转机构(3)、将材料排出到台架(2)上的涂覆对象物(W)上并进行涂覆的涂覆喷嘴(4)、使台架(2)和涂覆喷嘴(4)在与旋转方向相交的交差方向沿载置面(2a)相对移动的移动机构(5)、一面通过旋转机构(3)使载置了涂覆对象物(W)的台架(2)旋转，一面通过移动机构(5)使台架(2)和涂覆喷嘴(4)在交差方向沿载置面(2a)相对移动，进行通过涂覆喷嘴(4)将向台架(2)上的涂覆对象物(W)涂覆材料的控制的控制部(10)、清洗涂覆喷嘴(4)的清洗装置(7)。 | ||
| 申请公布号 | CN101905205A | 申请公布日期 | 2010.12.08 |
| 申请号 | CN201010200797.1 | 申请日期 | 2010.06.08 |
| 申请人 | 株式会社东芝;中外炉工业株式会社 | 发明人 | 大城健一;佐藤强;德本隆男;夏贞雄;岩崎聪一郎 |
| 分类号 | B05B13/04(2006.01)I;B05B15/02(2006.01)I;B05B9/04(2006.01)I;B05D1/02(2006.01)I;B05D1/40(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | B05B13/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张斯盾 |
| 主权项 | 一种成膜装置，其特征在于，具备：具有载置涂覆对象物的载置面的台架、使上述台架在沿上述载置面的旋转方向旋转的旋转机构、将材料排出到上述台架上的上述涂覆对象物上并进行涂覆的涂覆喷嘴、使上述台架和上述涂覆喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向沿上述载置面相对移动的移动机构、一面通过上述旋转机构使载置了上述涂覆对象物的上述台架旋转，一面通过上述移动机构使上述台架和上述涂覆喷嘴在上述交差方向沿上述载置面相对移动，进行通过上述涂覆喷嘴向上述台架上的上述涂覆对象物涂覆上述材料的控制的控制部、清洗上述涂覆喷嘴的清洗装置。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||