发明名称 |
一种发光二极管芯片的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种发光二极管芯片的制造方法,利用掩膜技术对蓝宝石衬底进行激光划片将其划分为多个芯片单元,并利用磷酸和硫酸的混合液对划道进行腐蚀、清除划片生成物,去除掩膜后进行GaN外延层生长,从而能有效降低GaN外延层的位错密度、提高外延层晶体的质量、减少划片生成物对光的吸收、提高LED芯片的出光效率,可使LED芯片的亮度提高20%以上。 |
申请公布号 |
CN101908505A |
申请公布日期 |
2010.12.08 |
申请号 |
CN201010209375.0 |
申请日期 |
2010.06.24 |
申请人 |
上海蓝光科技有限公司 |
发明人 |
李士涛;郝茂盛;陈诚;张楠;袁根如;朱广敏 |
分类号 |
H01L21/78(2006.01)I;H01L33/02(2010.01)I |
主分类号 |
H01L21/78(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
李仪萍 |
主权项 |
一种发光二极管芯片的制造方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、在蓝宝石衬底上制作掩膜层;步骤二、在所述掩膜层上制作光刻胶图形,所述光刻胶图形在掩膜层表面形成多个单元,各单元之间将部分掩膜层露出;步骤三、在露出的掩膜层上进行激光划片,划至所述蓝宝石衬底,形成划道,将其划分为多个芯片单元;步骤四、去除所述光刻胶图形;步骤五、以所述掩膜层作为掩膜,使用磷酸和硫酸的混合液对划道侧壁进行腐蚀,清除划片生成物;步骤六、使用清洗液去除所述掩膜层;步骤七、在划分为多个芯片单元的蓝宝石衬底上生长薄膜,使每个芯片单元的蓝宝石衬底上形成半导体外延层,该半导体外延层至少包括N型半导体层、位于所述N型半导体层之上的有源层,以及位于所述有源层之上的P型半导体层;步骤八、在步骤七所得结构上对每个芯片单元进行刻蚀,露出部分N型半导体层,然后制作透明电极、N电极、P电极和钝化层。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区芳春路400号 |