| 发明名称 | 含有PMMA的中空纤维膜及其制法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜及其制备方法，其制膜的配方及其含量以质量百分比计：第一聚合物P1：聚偏氟乙烯(PVDF)25～40％；第二聚合物P2：聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)0～5％；第一稀释剂D1：二甘醇乙酸酯36～50％；第二稀释剂D2：乙二醇丁醚17～24％；采用本发明制备的PVDF中空纤维超、微滤膜，具有优良的化学稳定性，抗污染、强度高的中空纤维膜，能为MBR工艺提供高性能的膜产品。 | ||
| 申请公布号 | CN101879417A | 申请公布日期 | 2010.11.10 |
| 申请号 | CN201010153169.2 | 申请日期 | 2010.04.23 |
| 申请人 | 苏州膜华材料科技有限公司 | 发明人 | 洪耀良;奚韶锋;陈仙 |
| 分类号 | B01D71/34(2006.01)I;B01D69/08(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I | 主分类号 | B01D71/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种聚偏氟乙烯多孔中空纤维膜，其制膜的配方及其含量以质量百分比计：第一聚合物P1：聚偏氟乙烯(PVDF) 25～40％第二聚合物P2：聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 0～5％第一稀释剂D1：二甘醇乙酸酯 36～50％第二稀释剂D2：乙二醇丁醚 17～24％。 | ||
| 地址 | 215200 江苏省苏州市吴江经济开发区柳胥路479号 | ||