| 发明名称 | 光罩的检测方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光罩的检测方法，包括，设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组线型检测图形；设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组孔型检测图形；至少在光罩的边缘和中心各设置一组线型检测图形或一组孔型检测图形或由一组线型检测图形和一组孔型检测图形共同构成的检测图形；制作光罩；测量光罩上的检测图形的特征尺寸；如果被测量图形的特征尺寸处于检测图形的特征尺寸的偏差范围内，则光罩合格；如果被测量图形的特征尺寸超出检测图形的特征尺寸的偏差范围，则光罩不合格。本发明光罩检测方法较全面。 | ||
| 申请公布号 | CN101295130B | 申请公布日期 | 2010.11.10 |
| 申请号 | CN200710040257.X | 申请日期 | 2007.04.24 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 程仁强 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 一种光罩的检测方法，包括，设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组线型检测图形，其中所述栅距为图形的特征尺寸和图形间距之和，设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组孔型检测图形，其中所述栅距为图形的特征尺寸和图形间距之和，其中，所述密集型图形是指图形间距与图形的特征尺寸的比值小于10的图形，而所述稀疏型图形是指图形间距与图形的特征尺寸的比值在大于等于10的图形；至少在光罩的边缘和中心各设置一组线型检测图形或一组孔型检测图形或由一组线型检测图形和一组孔型检测图形共同构成的检测图形；制作光罩；测量光罩上的检测图形的特征尺寸；如果被测量图形的特征尺寸处于检测图形的特征尺寸的偏差范围内，则光罩合格；如果被测量图形的特征尺寸超出检测图形的特征尺寸的偏差范围，则光罩不合格。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||