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一种具有微共振腔的基板，用于磊晶制备一种以光电效应产生光的固态发光元件，该基板包含：一层底层，具有一上表面；及复数共振体，分别间隔地以阵列态样形成在该上表面，每一共振体具有一包括有一垂直于该上表面之轴线的环形周壁，及一由该周壁及该上表面共同界定并可限制光产生驻波现象的微共振腔。依据申请专利范围第1项所述之具有微共振腔的基板，还包含复数环围体，是以预定光波长一半的整数倍为间隔在该上表面形成规则的周期排列，而界定出复数等边长的多边形区间，并使得该每一共振体是对应位于该一区间的中央，且使环围该共振体的复数环围体是对应该共振体的中心轴线呈径向对称。依据申请专利范围第2项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体的高度介于0.5~2.5 μ m，且其周壁外周面的截面成等边且边长介于3~6 μ m的六角形。依据申请专利范围第3项所述之具有微共振腔的基板，其中，该环围体是自该上表面向上形成高度介于0.5~2.5 μ m，直径介于0.5~1.5 μ m的圆柱。依据申请专利范围第4项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面是直径介于0.5~2 μ m的圆形。依据申请专利范围第4项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面对应于该周壁外周面的截面且边长介于0.5~2 μ m的等边六角形。依据申请专利范围第2项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体的高度介于0.5~2.5 μ m，且其周壁外周面的截面成直径介于3~6 μ m的圆形。依据申请专利范围第7项所述之具有微共振腔的基板，其中，该环围体是自该上表面向上形成高度介于0.5~2.5 μ m，直径介于0.5~1.5 μ m的圆柱。依据申请专利范围第8项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面是直径介于0.5~2 μ m的圆形。依据申请专利范围第8项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面对应于该周壁轴线成径向对称且边长介于0.5~2 μ m的等边六角形。依据申请专利范围第1项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体还包括一支设置在该上表面并位于于该微共振腔中的凸柱。依据申请专利范围第11项所述之具有微共振腔的基板，还包含复数环围体，是以预定光波长一半的整数倍为间隔在该上表面形成规则的周期排列，而界定出复数等边长的多边形区间，并使得该每一共振体是对应位于该一区间的中央，且使环围该共振体的复数环围体是对应该共振体的中心轴线呈径向对称。依据申请专利范围第12项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体的高度介于0.5~2.5 μ m，且其周壁外周面的截面成等边且边长介于3~6 μ m的六角形。依据申请专利范围第13项所述之具有微共振腔的基板，其中，该环围体是自该上表面向上形成高度介于0.5~2.5 μ m，直径介于0.5~1.5 μ m的圆柱。依据申请专利范围第14项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面是直径介于0.5~2 μ m的圆形。依据申请专利范围第15项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是等边六角形。依据申请专利范围第15项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是圆形。依据申请专利范围第14项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面对应于该周壁外周面的截面且边长介于0.5~2 μ m的等边六角形。依据申请专利范围第18项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是等边六角形。依据申请专利范围第18项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是圆形。依据申请专利范围第12项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体的高度介于0.5~2.5 μ m，且其周壁外周面的截面成直径介于3~6 μ m的圆形。依据申请专利范围第21项所述之具有微共振腔的基板，其中，该环围体是自该上表面向上形成高度介于0.5~2.5 μ m，直径介于0.5~1.5 μ m的圆柱。依据申请专利范围第22项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面是直径介于0.5~2 μ m的圆形。依据申请专利范围第23项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是等边六角形。依据申请专利范围第23项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是圆形。依据申请专利范围第22项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一共振体之微共振腔的截面对应于该周壁轴线成径向对称且边长介于0.5~2 μ m的等边六角形。依据申请专利范围第26项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是等边六角形。依据申请专利范围第26项所述之具有微共振腔的基板，其中，该每一凸柱的截面是圆形。 |
