发明名称 转印膜结构
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.04.21
申请号 TW099209348 申请日期 2010.05.19
申请人 胜昱科技股份有限公司 发明人 谢宇恒;蔡明伦;黄宋因
分类号 B44C1/16 主分类号 B44C1/16
代理机构 代理人
主权项 一种转印膜结构,包括:一基底薄膜层;一离型层,设置于该基底薄膜层之上表面;一第一硬化膜层,设置于该离型层之上表面;一饰纹层,设置于该第一硬化膜层之上表面;一第二硬化膜层,设置于该饰纹层之上表面;以及一黏着膜层,设置于该第二硬化膜层之上表面。如申请专利范围第1项所述之转印膜结构,其中该饰纹层包括一油墨层,该油墨层系设置于该第一硬化膜层之上表面。如申请专利范围第1项所述之转印膜结构,其中该饰纹层包括一油墨层以及一金属薄膜层,该油墨层系设置于该第一硬化膜层之上表面,该金属薄膜层系设置于该油墨层之上表面。如申请专利范围第1项所述之转印膜结构,其中该第一硬化膜层以及该第二硬化膜层的厚度系为3微米(μm)至60微米(μm)。如申请专利范围第1项所述之转印膜结构,其中该第一硬化膜层以及该第二硬化膜层的材料种类系为选自由聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚醯胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚醯胺系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚碸系树脂、聚碸系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂以及异氰酸酯所组成之一群组其中之一种材料。如申请专利范围第1项所述之转印膜结构,其中该基底薄膜层系为选自由一高分子聚合物基材、一金属薄膜基材以及一纤维系薄膜所组成之一群组其中之一种基材。如申请专利范围第6项所述之转印膜结构,其中该高分子聚合物之材料种类系为选自由聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚醯胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂所组成之一群组其中之一种材料。如申请专利范围第6项所述之转印膜结构,其中该纤维系薄膜系为选自由一玻璃纸、一涂布纸以及一赛珞凡所组成之一群组其中之一种薄膜,或为该等薄膜组成之复合薄膜基材。
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