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一种气体喷嘴座，其包含：一本体，系具有贯通该本体之主气道，于该本体顶面之周缘具有一导流结构，于该本体之侧面则侧向延伸有一延伸部，其中，至少一副气道系贯通该延伸部；及一盖体，系具有贯通该盖体之通道并使该本体固定于该通道中，该通道之上开口周缘向该通道之壁面形成有另一导流结构，其中，该上开口周缘与该本体顶面周缘间系具有一间隙。如申请专利范围第1项所述之气体喷嘴座，其中，该本体顶面周缘具有之导流结构系为第一外倒角；及于该盖体上形成之另一导流结构系为第一内倾角。如申请专利范围第2项所述之气体喷嘴座，其中，该延伸部系低于该本体顶面；及于该盖体上，该通道之上开口的面积系小于该通道之下开口的面积，并藉由该延伸部将该盖体固定于该本体上。如申请专利范围第3项所述之气体喷嘴座，其中该第一外倒角与水平面系呈第一夹角，该第一内倒角与该水平面系呈第二夹角，该第一夹角系大于该第二夹角。如申请专利范围第4项所述之气体喷嘴座，其中该第一夹角约为30度至90度，该第二夹角约为30度。如申请专利范围第3项所述之气体喷嘴座，其中该盖体之顶面与该本体之顶面系位于同一水平面，且该主气道之壁面具有至少一凹槽。如申请专利范围第3项所述之气体喷嘴座，其中该本体更具有供固定元件固设之至少一贯孔。如申请专利范围第3至7项中任一项所述之气体喷嘴座，其中该盖体与该延伸部系藉由紧迫方式将该盖体固定于该本体上。如申请专利范围第8项所述之气体喷嘴座，其中该通道之下开口周缘系具有第二内倒角。如申请专利范围第8项所述之气体喷嘴座，其中该本体、该延伸部及该盖体于俯视角度上皆具有圆形之外形。一种气体喷嘴座，系应用于用来存放半导体元件之储存匣，用以将气体导入该储存匣，该气体喷嘴座包含具主气道之一本体，该气体喷嘴座之特征在于：于该本体上更包含一盖体，于该本体之侧边则具有至少一副气道，该盖体具有至少一导流结构以使流经该至少一副气道的气流可于该本体上方形成一气流壁。如申请专利范围第11项所述之气体喷嘴座，其中，该盖体之至少一导流结构系为于该盖体内壁具有之第一内倾角；及该本体上更包含作为导流结构之第一外倒角；其中，该第一内倾角与该第一外倒角之角度搭配系用以使流经该至少一副气道的气流于该本体上方形成该气流壁。如申请专利范围第12项所述之气体喷嘴座，其中该主气道系贯通该本体，该盖体系供该本体固定于其内且该盖体未遮蔽该主气道，该至少一副气道系位于该本体侧之一延伸部上且系位于该盖体的下方。如申请专利范围第12或13项所述之气体喷嘴座，其中该第一外倒角与水平面系呈第一夹角，该第一内倾角与该水平面系呈第二夹角，该第一夹角系大于该第二夹角。 |
