| 摘要 |
【物品用途】;本创作系一种对半导体基板表面依序供给复数反应气体而制膜的半导体制造用反应炉之顶盘。;【创作特点】;本创作具有形状略呈圆形之板体，板体一侧面形成有略半圆状之凸部，另一侧面则形成有对应之凹部，板体外围形成有两不对称之凸耳及五道弧长不均之缺口，板体靠其中两道缺口处分别设有两贯穿圆孔，略半圆状凸部近板体外围部位形成有略呈矩形之贯穿孔，藉此以呈现出不同的视觉感受。;使用状态参考剖面图系表示于本创作置于半导体制造用反应炉内部的状态。A-B-C剖面线之组合剖面图系表示剖面线之参考图之剖面图。 |
