发明名称 VERFAHREN ZUM UNTERSUCHEN EINES SUBSTRATES
摘要 d offenbart. Das Verfahren zum Untersuchen eines Substrates umfasst: das Erhalten von Phasendaten pro hervorstehendes Bauteil bezüglich eines Substrates durch das Projizieren eines Musterstrahles auf das Substrat, das ein darauf durch eine Mehrzahl aufeinanderfolgender hervorstehender Bauteile ausgebildetes Zielobjekt aufweist; das Erhalten von Höhendaten pro hervorstehendes Bauteil bezüglich des Substrates mit Hilfe der Phasendaten pro hervorstehendes Bauteil; das Festlegen eines hervorstehenden Bauteiles mit der höchsten Zuverlässigkeit aus der einen Mehrzahl hervorstehender Bauteile als hervorstehendes Bezugsbauteil; das Modifizieren von Höhendaten verbleibender hervorstehender Bauteile, die zu Höhendaten des hervorstehenden Bezugsbauteils in Bezug gesetzt werden; und das Erhalten integrierter Höhendaten mit Hilfe der modifizierten Höhendaten.
申请公布号 DE102011086467(A1) 申请公布日期 2012.05.24
申请号 DE201110086467 申请日期 2011.11.16
申请人 KOH YOUNG TECHNOLOGY INC. 发明人 JEONG, JOONG-KI
分类号 G01B11/25;G01R31/308 主分类号 G01B11/25
代理机构 代理人
主权项
地址