摘要 |
d offenbart. Das Verfahren zum Untersuchen eines Substrates umfasst: das Erhalten von Phasendaten pro hervorstehendes Bauteil bezüglich eines Substrates durch das Projizieren eines Musterstrahles auf das Substrat, das ein darauf durch eine Mehrzahl aufeinanderfolgender hervorstehender Bauteile ausgebildetes Zielobjekt aufweist; das Erhalten von Höhendaten pro hervorstehendes Bauteil bezüglich des Substrates mit Hilfe der Phasendaten pro hervorstehendes Bauteil; das Festlegen eines hervorstehenden Bauteiles mit der höchsten Zuverlässigkeit aus der einen Mehrzahl hervorstehender Bauteile als hervorstehendes Bezugsbauteil; das Modifizieren von Höhendaten verbleibender hervorstehender Bauteile, die zu Höhendaten des hervorstehenden Bezugsbauteils in Bezug gesetzt werden; und das Erhalten integrierter Höhendaten mit Hilfe der modifizierten Höhendaten.
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