发明名称 非挥发性记忆体及其制造方法
摘要 一种非挥发性记忆体,此记忆体包括基底、源极/汲极区、第一绝缘层、电荷储存层、第二绝缘层与导体层。源极/汲极区是分别配置于基底中,且相邻一距离。第一绝缘层配置于源极/汲极区之间的基底上。电荷储存层配置于第一绝缘层上。第二绝缘层配置于电荷储存层上,而且第二绝缘层的周围区域的厚度大于其中心区域的厚度。导体层配置于第二绝缘层上。
申请公布号 TWI365538 申请公布日期 2012.06.01
申请号 TW097102347 申请日期 2008.01.22
申请人 旺宏电子股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 发明人 郭明昌
分类号 H01L29/788;H01L21/8247 主分类号 H01L29/788
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路16号