发明名称 |
非挥发性记忆体及其制造方法 |
摘要 |
一种非挥发性记忆体,此记忆体包括基底、源极/汲极区、第一绝缘层、电荷储存层、第二绝缘层与导体层。源极/汲极区是分别配置于基底中,且相邻一距离。第一绝缘层配置于源极/汲极区之间的基底上。电荷储存层配置于第一绝缘层上。第二绝缘层配置于电荷储存层上,而且第二绝缘层的周围区域的厚度大于其中心区域的厚度。导体层配置于第二绝缘层上。 |
申请公布号 |
TWI365538 |
申请公布日期 |
2012.06.01 |
申请号 |
TW097102347 |
申请日期 |
2008.01.22 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |
发明人 |
郭明昌 |
分类号 |
H01L29/788;H01L21/8247 |
主分类号 |
H01L29/788 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |