| 摘要 |
本案揭示一种检测系统。该检测系统包括一基体、一雷射、与一感测器阵列。该基体包括一第一表面、概念上分为多个区域之一第二表面、与一第三表面。该雷射组配来将电磁辐射发射至该基体并随后入射于第二表面区域上。该感测器阵列组配来撷取从该第二表面反射之电磁辐射。若具有第一电介质常数之一第一电介质与某些区域接触，则入射其上之电磁辐射会经历完全的内部反射，而若具有第二电介质常数之一第二电介质与其他区域接触，则入射其上之该等某些电磁辐射会由该第二电介质反射回该基体。该感测器阵列组配来于该第二表面上检测源自该电磁辐射入射之雷射斑点，并检测从该第二电介质反射之电磁辐射。 |
