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L'invention concerne un procédé de dépôt de particules sur un substrat, de préférence en défilement, comprenant les étapes suivantes : (a) réalisation d'un film compact de particules (4) flottant sur un liquide porteur (16) prévu dans une zone de transfert (14) présentant une sortie de particules agencée en regard du substrat ; (b) dépôt d'une substance (72) sur le film compact de particules (4), dans la zone de transfert (14) ; (c) transfert, par la sortie de particules (26) et sur le substrat (38), du film compact de particules (4) revêtu de la substance (72) ; puis (d) retrait de la substance (72) de manière à emporter avec elle les particules (4) du film qui y adhèrent, afin de créer au moins une zone évidée au sein de ce film déposé sur le substrat.
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