抗蚀剂膜、使用该抗蚀剂膜的抗蚀剂涂布空白光罩及抗蚀剂图案形成方法、以及化学增幅型抗蚀剂组成物

摘要

本发明提供一种抗蚀剂膜，使用化学增幅型抗蚀剂组成物而形成，抗蚀剂膜的膜厚为10 nm～200 nm。化学增幅型抗蚀剂组成物含有(A)具有酚性羟基的氢原子经下述通式(I)所表示的基团所取代的结构的高分子化合物、(B)藉由照射光化射线或者放射线而产生酸的化合物以及有机溶剂。;(I);(式中，R1表示烃基；R2表示氢原子或者烃基；Ar表示芳基；R1可以与Ar键结而形成可含有杂原子的环；＊表示与上述酚性羟基的氧原子的键结位置。)