| 摘要 |
使用一扫描器对一基板执行一微影曝光程序。该扫描器包含若干子系统。在曝光期间存在起因于该等子系统之叠对误差。使用一散射计来量测该等叠对误差以获得叠对量测。执行模型化以自该等叠对量测分离地判定不同经估计模型参数(例如，场失真模型参数、扫描/步进方向模型参数，及位置/变形模型参数)子集。每一子集系与起因于微影装置之一对应特定子系统的叠对误差相关。最后，藉由控制该扫描器之一特定子系统而在该扫描器中控制该曝光，该控制该扫描器之一特定子系统系使用其对应经估计模型参数子集而进行。此情形导致在一受良好控制之叠对的情况下曝光一产品晶圆。 |
