发明名称 |
用于使用改良的摩擦测量来进行基板抛光检测的系统和方法 |
摘要 |
本发明揭示抛光基板的方法、装置及系统。该装置包括上部平台;扭矩/应变测量仪,该扭矩/应变测量仪耦接至上部平台;以及下部平台,该下部平台耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转。在其他实施例中,该装置包括第一托架;耦接至第一托架的侧向力或位移测量仪;及耦接至侧向力或位移测量仪的第二托架,且其中第一托架与第二托架中之一适于支撑抛光头。本发明揭示多个额外方面。 |
申请公布号 |
CN103959446A |
申请公布日期 |
2014.07.30 |
申请号 |
CN201280059506.9 |
申请日期 |
2012.11.14 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
S-S·张;H·C·陈;L·卡鲁比亚;P·D·巴特菲尔德;E·S·鲁杜姆 |
分类号 |
H01L21/304(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/304(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
黄嵩泉 |
主权项 |
一种抛光基板的装置,所述装置包含:第一托架;侧向力测量仪,所述侧向力测量仪耦接至所述第一托架;以及第二托架,所述第二托架耦接至所述侧向力测量仪,且其中所述第一托架与所述第二托架中之一适于支撑抛光头。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |