| 发明名称 | 微波等离子体化学气相沉积装置 | ||
| 摘要 | 一种用于生长钻石的装置，该装置包括：一个或多个腔室，每个腔室与一个或多个其他腔室流体连接，每个腔室包括腔室内的一个或多个基底载置台组件以支承基底载置台，该基底载置台具有布置在其上的多个钻石晶种。 | ||
| 申请公布号 | CN104321461A | 申请公布日期 | 2015.01.28 |
| 申请号 | CN201380019823.2 | 申请日期 | 2013.04.12 |
| 申请人 | 二A 科技有限公司 | 发明人 | D.S.米斯拉 |
| 分类号 | C23C16/27(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/27(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 严志军;谭祐祥 |
| 主权项 | 一种用于生长钻石的装置，所述装置包括：一个或多个腔室，每个腔室与一个或多个其他腔室流体连接，每个腔室包括在所述腔室内的一个或多个基底载置台组件用于支承基底载置台，所述基底载置台具有布置在其上的多个钻石晶种。 | ||
| 地址 | 新加坡新加坡市珠烈街65号华侨银行大厦38－02/03室 | ||