彩膜基板、其制备方法及液晶显示面板

摘要

本发明公开了一种彩膜基板、其制备方法及液晶显示面板，涉及液晶显示技术领域，解决了现有技术形成的彩膜基板上彩色树脂与黑矩阵之间的段差较大，使得取向层摩擦不良最终导致液晶显示面板显示质量下降的问题。本发明实施例中，由于在形成彩色树脂的过程中采用了灰阶掩膜技术，使得形成的光刻胶图案上对应于黑矩阵上方的厚度小于对应于相邻两黑矩阵之间区域的厚度，在干法刻蚀后，对应于黑矩阵上方彩色树脂材料层的刻蚀量会大于对应于相邻两黑矩阵之间区域的彩色树脂材料层的刻蚀量，从而可降低彩色树脂与黑矩阵重叠部分的厚度，进而减小了彩色树脂与黑矩阵之间的段差。

主权项

一种彩膜基板的制备方法，包括：在基板上依次形成黑矩阵、彩色树脂、公共电极层、保护层及取向层，其特征在于，形成所述彩色树脂的步骤包括：采用灰阶掩膜版对形成在彩色树脂材料层上的光刻胶进行曝光；显影曝光后的所述光刻胶形成图案化光刻胶，所述图案化光刻胶的、对应于所述黑矩阵上方的厚度小于对应于相邻两黑矩阵之间区域的厚度；借助所述图案化光刻胶对所述彩色树脂材料层进行干法刻蚀，以形成所述彩色树脂；对应于所述黑矩阵上方所述彩色树脂材料层的刻蚀量大于对应于相邻两所述黑矩阵之间区域的所述彩色树脂材料层的刻蚀量。