接触窗结构、像素结构及像素结构的制造方法

摘要

本发明公开了一种接触窗结构、像素结构及像素结构的制造方法。该接触窗结构包含第一金属层、第一绝缘层、第二金属层、第二绝缘层及第三金属层。第一绝缘层设置于第一金属层上，且第一绝缘层具有第一开口，第一开口暴露部分第一金属层。第二金属层覆盖第一开口，且通过第一开口接触第一金属层。第二绝缘层设置于第一绝缘层上，且第二绝缘层具有第二开口，第二开口暴露第二金属层及部分第一绝缘层，其中第二开口在第一金属层上的投影区域涵盖第一开口在第一金属层上的投影区域。第三金属层覆盖第二绝缘层及第二开口，且通过第二开口接触第二金属层。本发明提供的接触窗结构可提升光刻工艺的分辨率。

主权项

一种接触窗结构，其特征在于，包含：第一金属层；第一绝缘层，其设置于所述第一金属层上，所述第一绝缘层具有第一开口，所述第一开口暴露部分所述第一金属层；第二金属层，其覆盖所述第一开口且通过所述第一开口接触所述第一金属层；第二绝缘层，其设置于所述第一绝缘层上，所述第二绝缘层具有第二开口，所述第二开口暴露所述第二金属层及部分所述第一绝缘层，其中所述第二开口在所述第一金属层上的投影区域涵盖第一开口在所述第一金属层上的投影区域；以及第三金属层，其覆盖所述第二绝缘层及所述第二开口，且通过所述第二开口接触所述第二金属层。