发明名称 成膜掩模的制造方法以及激光加工装置
摘要 本发明涉及成膜掩模的制造方法以及激光加工装置,该成膜掩模的制造方法包括:形成使设置有贯通孔的磁性金属部件与薄膜的一面紧密接触的构造的掩模用部件的第1阶段;向多个贯通孔内的预先决定的标准位置照射激光来贯通加工薄膜,从而形成多个预备开口图案的第2阶段;以及在多个预备开口图案上激光加工开口图案的第3阶段。
申请公布号 CN104955977A 申请公布日期 2015.09.30
申请号 CN201380071351.5 申请日期 2013.12.26
申请人 株式会社V技术 发明人 水村通伸
分类号 C23C14/04(2006.01)I;B23K26/362(2014.01)I;B23K26/402(2014.01)I;B23K26/064(2014.01)I;B23K26/08(2014.01)I;C23C16/04(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李洋;舒艳君
主权项 一种成膜掩模的制造方法,其具备:树脂制的薄膜,其形成有贯通的多个开口图案;和磁性金属部件,其设置为与所述薄膜的一面紧密接触并设置有内含所述多个开口图案的至少一个的大小的多个贯通孔,所述成膜掩模的制造方法的特征在于,包括:第1阶段,其形成使设置有所述贯通孔的所述磁性金属部件与所述薄膜的一面紧密接触的构造的掩模用部件;第2阶段,其向所述多个贯通孔内的预先决定的标准位置照射激光来贯通加工所述薄膜,从而形成所述开口图案所内含的形状的多个预备开口图案;以及第3阶段,其在所述多个预备开口图案上激光加工所述开口图案。
地址 日本神奈川县