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发明名称
ETCHING COMPOSITION
摘要
This disclosure relates to etching compositions containing 1) at least one oxidizing agent; 2) at least one chelating agent; 3) at least one metal corrosion inhibitor; 4) at least one organic solvent; 5) at least one amidine base; and 6) water.
申请公布号
WO2015142778(A1)
申请公布日期
2015.09.24
申请号
WO2015US20863
申请日期
2015.03.17
申请人
FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC.
发明人
DORY, THOMAS;KNEER, EMIL A.;TAKAHASHI, TOMONORI
分类号
C23F1/10;C23F1/40;C23F1/44
主分类号
C23F1/10
代理机构
代理人
主权项
地址
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