半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁

摘要

提供使用各种兆声装置，结合选择性的化学制品以从在半导体、医学或其他任何处理环境中使用的处理设备的表面除去亚微米微粒污染物的方法和装置，其中该兆声装置包括兆声槽、扫描兆声板、兆声喷管和兆声扫描波束等。

主权项

一种清洁处理元件的装置；包含：具有载体元件的处理室，其中该载体元件能够支撑该处理室内的该处理元件并能机械翻转或者旋转该处理元件，或者该处理元件在该载体元件上能被手动或机械翻转或旋转；以及喷管组件，该喷管组件延伸穿过所述处理室的开口进入限定在所述处理室内的空腔，该喷管组件能够向该处理元件的表面供应声波能量化的流体；该喷管组件包括兆声传感器主体部分和耦合于该兆声传感器主体部分的出口的喷嘴部分，该兆声传感器主体部分能够产生声波能量并将该声波能量应用于沿着该兆声传感器主体部分的通路移动的流体以在该喷嘴部分提供该声波能量化的流体；其中该兆声传感器主体部分包括具有进口和出口的通路，由该兆声传感器主体部分产生的声波能量传播入该通路，从而该流体沿着该通路移动时被声波能量化，其中所述兆声传感器主体部分的所述进口位于所述处理室之外，所述兆声传感器主体部分的所述出口位于所述处理室之内，并且所述流体在沿着所述通路移动时，在整个所述通路上都被声波能量化，其中所述兆声传感器主体部分的所述通路的所述出口直接与所述喷嘴部分连接以使得所述声波能量化的流体一离开所述通路之后就被所述喷嘴部分喷淋到所述处理元件而不经过其它部件。