| 发明名称 | 制备芳基、杂芳基或烯基取代的不饱和烃类的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种制备芳基、杂芳基或烯基取代的不饱和烃类的方法，包括：在钯催化剂的存在下，使芳基卤化物类、杂芳基卤化物类或烯基卤化物类与炔烃类或烯烃类发生反应以获得粗生成物，接下来，在具有至少一个NC＝S基团的化合物存在下，对所述粗生成物进行蒸馏纯化。 | ||
| 申请公布号 | CN102471186B | 申请公布日期 | 2015.09.23 |
| 申请号 | CN201080036009.8 | 申请日期 | 2010.08.13 |
| 申请人 | 日本曹达株式会社 | 发明人 | 西泽寿晃;舟洞诚 |
| 分类号 | C07C2/86(2006.01)I;B01J23/44(2006.01)I;C07C7/04(2006.01)I;C07C7/10(2006.01)I;C07C15/48(2006.01)I;C07C29/80(2006.01)I;C07C29/86(2006.01)I;C07C33/30(2006.01)I;C07B61/00(2006.01)I | 主分类号 | C07C2/86(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 丁业平;张天舒 |
| 主权项 | 一种制备芳基、杂芳基或烯基取代的不饱和烃类的方法，其特征在于，包括：在钯催化剂的存在下，使芳基卤化物类、杂芳基卤化物类或烯基卤化物类与炔烃类或烯烃类发生反应，从而获得粗生成物，接下来，在具有至少一个NC＝S基团的化合物存在下，对所述粗生成物进行蒸馏纯化，相对于蒸馏前的粗生成物中所含的芳基、杂芳基或烯基取代的不饱和烃类，所述具有至少一个NC＝S基团的化合物的用量为0.2摩尔％～0.5摩尔％。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||