具有层叠膜的玻璃基板及其制造方法

摘要

一种具有层叠膜的玻璃基板，层叠膜通过CVD法利用设置于缓冷炉内的多个喷射器形成于玻璃带上。将玻璃化转变温度设为Tg、将玻璃应变温度设为Ts的情况下，层叠膜在Tg+50℃以下形成，并且层叠膜中的至少两个以上的层在从Tg+50℃至Ts的温度区域内形成。另外，形成层叠膜的所有层的温度区域中玻璃带的每单位长度的下降温度K1为0℃/m＜K1＜10℃/m，层叠膜包含电阻率为4.7×10^-4Ω·cm以下且载流子浓度为2.5×10²⁰cm^-3以上的氟掺杂的氧化锡层。

主权项

一种具有层叠膜的玻璃基板，其是使用具备将玻璃的原料熔解的熔解炉、使熔融玻璃浮于熔融金属上而成形出玻璃带的浮抛窑和将所述玻璃带缓冷的缓冷炉的玻璃制造装置制造的，其特征在于，所述层叠膜是通过CVD法利用设置于所述缓冷炉内的多个喷射器而形成于所述玻璃带上，在将玻璃化转变温度设为Tg、将玻璃应变温度设为Ts的情况下，所述层叠膜在Tg+50℃以下形成，并且所述层叠膜中的至少两个以上的层在从Tg+50℃至Ts的温度区域内形成，形成所述层叠膜的所有层的温度区域中所述玻璃带的每单位长度的下降温度K1为0℃/m＜K1＜10℃/m，所述层叠膜包含氟掺杂的氧化锡层，该氟掺杂的氧化锡层的电阻率为4.7×10^‑4Ω·cm以下，并且载流子浓度为2.5×10²⁰cm^‑3以上。