发明名称 |
一种光配向膜后烘处理装置及光配向膜后烘处理方法 |
摘要 |
本发明涉及到显示装置的生产技术领域,公开了一种光配向膜后烘处理装置及光配向膜后烘处理方法。该装置包括:加热腔室;设置在所述加热腔室内的加热台;且所述加热台上设置有支撑基板的支撑件;与所述加热腔室连通并用于降低所述加热腔室内压力的减压装置。在上述技术方案中,通过采用减压装置将加热腔室内的气压降低,从而便于光配向膜内的可分解物质的挥发,有效降低残留的含量,提高了光配向膜后烘处理的效果,进而提高了光配向膜的质量,从而降低了亮点不良的发生率,提升画面品质。 |
申请公布号 |
CN104932150A |
申请公布日期 |
2015.09.23 |
申请号 |
CN201510412403.1 |
申请日期 |
2015.07.14 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
周永山;李京鹏;谢振宇 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种光配向膜后烘处理装置,其特征在于,包括:加热腔室;设置在所述加热腔室内的加热台;且所述加热台上设置有支撑基板的支撑件;与所述加热腔室连通并用于降低所述加热腔室内压力的减压装置。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |