发明名称 一种沟槽肖特基二极管终端结构
摘要 本实用新型公开了一种沟槽肖特基二极管终端结构,包括一N型硅基片,且所述N型硅基片的一侧还设有一N型硅外延层,且所述N型硅外延层内设有若干第一沟槽,且所述第一沟槽的一侧设有一终端环结构。本实用新型由于第一沟槽对N型硅外延层的耗尽作用,第一沟槽的N型硅外延层的表面会形成耗尽层,随着反向电压增大,耗尽层会向硅表面深处(横向,纵向)扩展,使相邻沟槽间耗尽层相连,等同于在纵向上的耗尽层显著增加,从而增大了器件的反向耐压能力,同时减小了漏电流,而在器件的边缘部分增加一个终端环,用于改善器件的耐压和可靠性性能。
申请公布号 CN204668314U 申请公布日期 2015.09.23
申请号 CN201520303064.9 申请日期 2015.05.12
申请人 上海格瑞宝电子有限公司 发明人 高盼盼;代萌
分类号 H01L29/872(2006.01)I 主分类号 H01L29/872(2006.01)I
代理机构 中国商标专利事务所有限公司 11234 代理人 宋义兴
主权项 一种沟槽肖特基二极管终端结构,其特征在于,包括一N型硅基片,且所述N型硅基片的一侧设有一N型硅外延层,且所述N型硅外延层内设有若干第一沟槽及一终端环结构。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区盛夏路560号905B室